Система электронной лучевой литографии
Материал из Machinepedia
(Различия между версиями)
Redaktor (обсуждение | вклад) (Новая страница: «left ==Система электронной лучевой литографии== Компактная сис…») |
Версия 16:52, 22 апреля 2013
Система электронной лучевой литографии
Компактная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для отработки технологий и малосерийного производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 101,6 мм (4″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 12 МГц и динамическим диапазоном 18 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления. Для удобства и быстроты работы, в JBX-5500FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и сверхвысокоразрешающий (5-тилинзовый).